couche épitaxiale

Désignations

Codes : pays ou zone où la désignation a cours (CH, FR, DE, EU = Union européenne, INT = usage international). Une désignation barrée est déconseillée.

Définitions

anglais

A precisely doped, thin layer of silicon grown on a p-doped thick wafer and into which n-type semiconductor junctions are diffused. This grown crystal layer (usually doped) has the same crystallographic orientation as the substrate crystal wafer.