dépôt chimique en phase vapeur sous pression réduite

Désignations

français	dépôt chimique en phase vapeur sous pression réduite (correct,masculine noun)
anglais	low pressure chemical vapor deposition (correct) CONT: CVD [chemical vapor deposition] processes have numerous other names, such as ... low-pressure CVD when the pressure is less than ambient ... synonyme : low-pressure CVD (correct) LPCVD abrév. (correct)

Codes : pays ou zone où la désignation a cours (CH, FR, DE, EU = Union européenne, INT = usage international). Une désignation barrée est déconseillée.

Définitions

français: Technique de dépôt de couches minces sur un substrat, dans laquelle les réactions chimiques ont lieu dans une enceinte à faible pression reliée à une pompe à vide.

Classement

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API

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Données : TERMIUM Plus, Bureau de la traduction, gouvernement du Canada. Licence du gouvernement ouvert – Canada.