faible perte de matériau cible

OBS: Pulvérisation cathodique [...] Érosion localisée du matériau cible. La difficulté d'implanter un champ magnétique intense, parallèle à la cible, conduit à des solutions où le champ parallèle est localisé: il s'ensuit que la zone de plasma intense est confinée et que l'aire de bombardement intense de la cible est très localisée. La conséquence est que le matériau cible s'use en forme de sillon [...] et finit par traverser la cible, laissant une grande quantité de matériau inutilisé.