photolithographie par rayons X

OBS: Pour produire un microprocesseur par photolithographie, on reproduit le schéma du circuit sur un masque de quartz, puis on l'éclaire afin de projeter la figure sur une couche photosensible, à la surface de la puce de silicium. [...] En réalisant des traits deux fois moins larges, on fabriquerait des transistors quatre fois plus petits, puisque ces composants sont essentiellement en deux dimensions. Néanmoins, cette réduction semble impossible à réaliser par la technique actuelle, car les longueurs d'onde des ondes lumineuses utilisées aujourd'hui sont trop grandes. De nombreuses sociétés étudient une photolithographie par rayons X, dont les longueurs d'onde sont plus courtes, mais elles n'arrivent pas encore à fabriquer des microprocesseurs en série par cette méthode.

OBS: In photolithography, light is used to transfer circuit patterns from a quartz template, or mask, onto the surface of a silicon chip. ... Making features half as wide would yield transistors four times smaller, since the device is essentially two-dimensional. But it seems impossible to make such tiny parts using light; the light waves are just too wide. Many companies have invested in finding ways to substitute smaller x-rays for light waves. To date, however, x-rays have not succeeded as a way to mass-produce state-of-the-art chips.