gravure par faisceau d'ions réactifs

CONT: La gravure par faisceau d'ions assistés chimiquement (CAIBE) et la gravure par faisceau d'ions réactifs (RIBE) ont également été utilisées pour graver des matériaux. [...] En CAIBE, les gaz réactifs sont ajoutés dans le plasma sous la grille d'accélération: la composante chimique de la gravure est privilégiée. En RIBE, les gaz réactifs sont introduits dans la source.

CONT: RIBE involves the use of an ion beam in the presence of reactive gases. Unlike RIE [reactive ion etching], where plasma is generated within the reaction chamber, RIBE directs a focused ion beam onto the substrate, allowing for highly directional etching.

CONT: Grabado por haz de iones reactivos (RIBE): en esta técnica los iones de un plasma son acelerados proporcionando un haz de iones que incide perpendicularmente sobre la muestra arrancando el material superficial de manera muy direccional. La muestra está separada del plasma por una rejilla que sirve para extraer un haz dirigido de iones hacia la muestra.