nanolithographie par rayons X

OBS: Il y a dans toute lithographie, depuis le Batik de Bali à la nanolithographie par rayons X, trois étapes: le dépôt de la couche sensible, le transfert du motif, et la fixation (révélation) de ce motif.

OBS: For several years we have been developing the tools and methods of x-ray nanolithography (i.e., sub-100 nm features). We have explored the theoretical and practical limitations, and endeavored to make its various components (for example, mask making, resists, electroplating, sources, alignment, etc.) reliable and ""user friendly.""

CONT: La utilización de rayos X para nanolitografía se ha restringido por el momento a aplicaciones de investigación, ya que la industria microelectrónica se ha basado en los últimos años en la utilización de técnicas ópticas especiales que han permitido obtener estructuras mucho menores que la longitud de onda utilizada. Para la industria de semiconductores, la utilización de un sincrotrón externo en lugar de un equipo ""in situ"" en la fábrica es un grave inconveniente. Uno de los sincrotrones que ha mantenido un programa importante de investigación en nanolitografía de rayos X es Aladdin, en la Universidad de Winsconsin.